孔隙率47-495执行标准Q/HNYLHB013-2018名称活性磷灰石除氟滤料CHAP外观白色颗粒吸附容量0.5-5.0mg/g堆积密度1.5规格0.5-2mm
活性磷灰石除氟滤料 CHAP 在反冲洗过程中,需要注意反冲洗的强度、时间、水质以及滤料的状态等因素,以确保反冲洗效果并保护滤料性能,具体如下:
控制反冲洗强度
反冲洗强度应适中,强度过大会导致滤料颗粒之间的碰撞加剧,使滤料磨损甚至破碎,影响滤料的使用寿命和除氟效果。一般来说,反冲洗水的流速宜控制在 10 - 15m/h,这样既能有效去除滤料表面的杂质和部分吸附的氟离子,又不会对滤料造成过大的冲击。
对于气水联合反冲洗,气体强度通常控制在 10 - 15L/(m²・s),水强度控制在 3 - 5L/(m²・s)。要根据滤料的特性和实际运行情况,合理调整气水比例和强度,避免因气体或水的强度过高对滤料造成损坏。

活性磷灰石除氟滤料 CHAP 常用的再生方法是氢氧化钠再生法。具体步骤如下:
配置再生剂溶液:配置质量分数为 1%-3% 的氢氧化钠再生剂溶液,溶液体积与除氟滤料的体积质量比为 0.5-1,例如,一吨的滤料使用 500L-1000L 的 1%-3% 氢氧化钠溶液。
反洗:关闭除氟罐的进水阀,用原水反洗滤料 5-10 分钟。
浸泡再生:用再生药液以 2-4 米 / 小时的流速,缓缓打入约 30%-35% 的再生液,然后静止浸泡 4 小时。接着再用再生药液以相同流速缓缓打入约 30% 的再生液,继续浸泡 4 小时。余液可继续重复上述过程,也可以一次性全部打入再生液浸泡滤料,整个再生过程约 10-12 小时完成。
冲洗:再生结束后用原水快速冲洗滤料,直至出水的 pH 值与原水相同为止,即可进行下一周期的生产。
废液处理:再生后的废液排出后,加入少量生石灰使废液中氟离子生成氟化钙后沉淀析出,并用少量酸将 pH 调节至小于 9 后排放;也可将原水与废液混合稀释后调节 pH 排放。
此外,还有原位再生法。先将已被氟离子饱和的滤料在氢氧化钠溶液中静置浸泡,将吸附在滤料表层的氟离子洗脱下来。然后将脱氟处理后的滤料在磷酸溶液中静置浸泡一段时间,排掉溶液,再放入氢氧化钠溶液中静置浸泡,使滤料表层发生化学反应重新生成羟基磷灰石,恢复除氟能力。

活性磷灰石除氟滤料 CHAP 每次反冲洗时间通常控制在5 - 10 分钟。
反冲洗时间主要依据滤料的污染程度、原水水质以及反冲洗强度等因素来确定。当原水水质较好,滤料污染较轻时,反冲洗时间可相对较短,约 5 分钟左右即可达到较好的冲洗效果。若原水水质较差,滤料表面附着的杂质较多,或者经过长时间运行后滤料截污量较大,则需要适当延长反冲洗时间至 8 - 10 分钟,以确保滤料能够被充分清洗干净,恢复其吸附除氟性能。但反冲洗时间不宜过长,否则可能会导致滤料层过度膨胀,使滤料颗粒之间的碰撞加剧,造成滤料的磨损和破碎,还可能冲散滤料层,影响过滤效果。

活性磷灰石除氟滤料 CHAP 的除氟原理主要是吸附和离子交换。具体如下:
吸附作用:高氟水与活性磷灰石除氟滤料 CHAP 接触后,滤料具有较大的比表面积和特殊的表面结构,对水中的氟离子有吸附作用,使氟离子附着在滤料表面。
离子交换:活性磷灰石除氟滤料表面的 OHˉ离子与水中的氟离子发生离子交换反应。氟离子取代滤料表面的 OHˉ离子,从而被固定在滤料上,实现氟离子从水中的去除,而滤料中的 OHˉ离子则进入水中。
通过吸附和离子交换的双重作用,活性磷灰石除氟滤料 CHAP 能够有效地将水中的氟离子去除,使处理后的水达到国家规定的饮用水氟含量标准。

肉眼:这是基本的工具,用于初步观察滤料的整体颜色、大致的表面清洁度、滤料层的均匀性以及是否有明显的异物混入等。
放大镜:可用于更细致地观察滤料表面的清洁程度、颗粒的完整性,查看是否有细微的裂纹、磨损痕迹或附着的微小杂质等,一般选择 5 - 10 倍的放大镜即可满足基本需求。
镊子:用于夹取滤料样本进行近距离观察或挑选出可能混入的异物,方便对单个滤料颗粒进行更仔细的检查。
白瓷盘或白色背景板:将滤料放在白瓷盘或白色背景板上,可提供清晰的背景对比,便于更准确地观察滤料的颜色、表面杂质等情况,有助于发现一些在其他背景下不易察觉的细节。
电子天平:如果需要测量滤料的质量变化,以评估滤料是否有流失或成分变化等情况,可以使用电子天平。通过称量一定量滤料在反冲洗前后的质量,来判断是否有滤料损失或吸附了其他物质。
标准筛:由不同孔径的筛网组成,用于检测滤料的粒径分布。将反冲洗后的滤料进行筛分,对比不同孔径筛网上截留的滤料颗粒数量和比例,与原始滤料的粒径分布进行比较,判断滤料在反冲洗过程中是否发生了粒径变化。
相机:用于拍摄滤料的外观照片,以便记录滤料的状态,对比不同时间点的照片可以更直观地观察到滤料的变化趋势,也有助于对异常情况进行分析和存档。

要降低活性磷灰石除氟滤料 CHAP 的再生频率,可从以下几个方面入手:
优化原水预处理
沉淀过滤:在含氟水进入除氟设备前,先通过沉淀和过滤等预处理工艺,去除水中的悬浮杂质、泥沙等颗粒物。这可以防止这些杂质堵塞滤料孔隙,滤料的比表面积充分发挥作用,提高其对氟离子的吸附效率,进而延长滤料达到饱和的时间,降低再生频率。
除铁除锰:如果原水中含有铁、锰离子,可行除铁除锰处理。因为铁、锰离子可能会与氟离子竞争滤料的吸附位点,通过预处理去除它们,能使滤料更有效地吸附氟离子,减少因其他离子干扰导致的滤料过早饱和,从而降低再生频率。